エドワーズ(株)

半導体プロセスツールをはじめとして、現在、世界中に130,000台以上が稼働している業界スタンダードです。
（排気速度：300~4,500L/s)

質量分析計から粒子加速器に至るまで、さまざまなアプリケーションで高真空(HV) や超高真空(UHV)環境を提供します。

RVシリーズのロータリ ベーン ポンプは、75年以上の経験が集約されています。
(排気速度：3~12m3/h)

EMシリーズ ポンプは、一般産業用途向けの堅牢なポンプです。
（排気速度：40～275m3/h)

経済性、性能、コンパクト性の点で効率的な動力伝達を実現するユニークな動圧駆動を特徴としています。 ブースターポンプの後段を排気するポンプと同時に起動することができる為、ポンプのダウン時間を短縮する事ができます。

最新の設計機能を備えた、クラス最高のパフォーマンスを備えています。

過酷なプロセス向けドライポンプ。世界中の300mm半導体工場やフラット パネル ディスプレイ製造工場にて各種プロセスに貢献しています。

堅牢性と信頼性のある動作を誇り、広範な通信・自動化制御機能を実現するオンボードコントローラーを備えています。産業アプリケーション向けとして経済的な真空ポンプとなっています。