ガスクラスターイオンビーム発生源

2021 9/23

ガスクラスターは数百〜数千個のガス原子がゆるく結合した塊で、細いスロートを持つノズルから噴出させる事により生成されます。

シングルイオンビームとガスクラスターイオンビーム（GCIB）の違い

ガスクラスターイオンビーム（GCIB）発生源の特徴

ナノオーダーの微細加工に適しています
Ra 数ナノメートルの平坦化加工
反応性ガス処理対応
基板表面温度１００℃以下での加工可能

ガスクラスターイオンビーム(GCIB)装置は数百〜数千の原子集団からなるクラスターイオンを発生させます。
GCIBのラテラルスパッタ効果により被対象物表面を超平坦化加工、無損傷加工が可能です。
通常のイオンビームでは得られない超低エネルギー照射効果（数eV/atom）とクラスターによる超高密度照射効果（表面改質、高品位薄膜形成）が可能です。